【48812】扬杰科技请求避免复合钝化膜过刻蚀的工艺办法专利触及半导体加工技术领域

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  金融界2024年3月4日音讯,据国家知识产权局公告,扬州扬杰电子科技股份有限公司请求一项名为“一种避免复合钝化膜过刻蚀的工艺办法“,公开号CN117637469A,请求日期为2023年11月。

  专利摘要显现,一种避免复合钝化膜过刻蚀的工艺办法,触及半导体加工技术领域。本发明经过研讨工艺压力,RF功率及CF。

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